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废气处理设备的分类介绍

发布时间:2019/07/23

  1、吸收设备:吸收法采用低挥发或不挥发性溶剂对VOCs进行吸收,再利用废气处理塔VOCs和吸收剂物理性质的差异进行分离。含VOCs的气体自吸收塔底部进入塔内,在上升过程中与来自塔顶的吸收剂逆流接触,净化后的气体由塔顶排出。吸收了VOCs的吸收剂通过热交换器后,进入汽提塔顶部,在温度高于吸收温度或压力低于吸收压力的条件下解吸。解吸后的吸收剂经过溶剂冷凝器冷凝后回到吸收塔。解吸出的VOCs气体经过冷凝器、气液分离器后以较纯的VOCs气体离开汽提塔,被回收利用。该工艺适合于VOCs浓度较高、温度较低的气体净化,其他情况下需要作相应的工艺调整。
  2、吸附设备:在用多孔性固体物质处理流体混合物时,流体中的某一组分或某些组分可被吸表面并浓集其上,此现象称为吸附。吸附处理废气时,吸附的对象是气态污染物,气固吸附。被吸附的气体组分称为吸附质,多孔固体物质称为吸附剂。固体表面吸附了吸附质后,一部被吸附的吸附质可从吸附剂表面脱离,此现附。而当吸附进行一段时间后,由于表面吸附质的浓集,使其吸附能力明显下降而吸附净化的要求,此时需要采用   的措施使吸附剂上已吸附的吸附质脱附,以协的吸附能力,这个过程称为吸附剂的   。因此在实际吸附工程中,正是利用吸附一   一再吸附的循环过程,达到除去废气中污染物质并回收废气中有用组分。
  3、有机废气的燃烧及催化净化设备:燃烧法用于处理高浓度Voc与有恶臭的化合物很有效,其原理是用过量的空气使这些杂质燃烧,大多数生成二氧化碳和水蒸气,可以排放到大气中。但当处理含氯和含硫的有机化合物时,燃烧生成产物中HCl或SO2,需要对燃烧后气体进一步处理。
  4、光催化和生物净化设备:光催化是常温深度反应技术。光催化氧化可在室温下将水、空气和土壤中有机污染物   氧化成   无害的产物,而传统的高温焚烧技术则需要在   的温度下才可将污染物摧毁,即使用常规的催化、氧化方法亦需要几百度的高温。从理论上讲,只要半导体吸收的光能不小于其带隙能,就足以激发产生电子和空穴,该半导体就有可能用作光催化剂。常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物,如Ti0、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点,具体研究中可根据需要选用,如CdS半导体带隙能较小,跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能,可以很好地利用自然光能,但它容易发生光腐蚀,使用寿命有限。相对而言,Ti02的综合性能较好,是   广泛使用和研究的单一化合物光催化剂。
  5、工业有机废气的低温等离子体的治理设备:等离子体就是处于电离状态的气体,其英文名称是plasma,它是由   科学muir,于1927年在研究低气压下汞蒸气中放电现象时命名的。等离子体由大量的子、中性原子、激发态原子、光子和自由基等组成,但电子和正离子的电荷数   体表现出电中性,这就是“等离子体”的含义。等离子体具有导电和受电磁影响的许多方面与固体、液体和气体不同,因此又有人把它称为物质的第四种状态。

  

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